硅红外滤光片的特点

2013-12-20 admin1 191

  硅红外滤光片旨在降低直拉硅单晶氧含量,提高硅红外滤光片透过率的硅片热处理工艺。其特征是将硅片在400-1000℃温度间的四段温区逐步升温并保温适当时间并在硅片冷却至850℃以下时取出,处理后的直拉硅单晶片在9um处的透过率接近或达到区熔硅单晶的水平,用热处理后的廉价直拉硅单晶片制造的红外滤光片,可满足红外仪器设备所需红外滤光片的要求,大大降低了滤光片的成本。

  硅红外滤光片的热处理工艺,包括硅片的切、磨、抛光和腐蚀清洗及热处理用石英炉管的HCl处理,它的特征在于:1.在炉温低于400℃时,装入硅片,2.将炉温升至400-550℃,保温10-30小时;然后升温至700-800℃,保温10-30小时,再升温至800-900℃,保温2-5小时,最后升温至900-1000℃,保温2-5小时,3.在炉温降至850℃以下时,取出硅片。

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